光刻机对于芯片制造的重要性是什么呢（芯片除了光刻机还需要什么）

为什么光刻机如此重要？

总结下来，主要有以下几点：

1、技术上壁垒高。

ASML总裁Peter Wennink也在媒体上方言：高端的EUV光刻机永远不可能（被中国）模仿。

“因为我们是系统集成商，我们将数百家公司的技术整合在一起，为客户服务。这种机器有80000个零件，其中许多零件非常复杂。以蔡司公司为例，为我们生产镜头，各种反光镜和其他光学部件，世界上没有一家公司能模仿他们。此外，我们的机器完全装有传感器，一旦检测到有异常情况发生，Veldhoven总部就会响起警报。”

2、长周期投入。

光刻机是典型到极致的高风险、高投入的赛道，前期的投入很高收益很慢，有时候身体要贴钱投入。从ASML的研发投入基本达到15%以上，有时候全年负增长也是常态。

据一位在ASML工作的知乎作者@俗不可耐透露：“ASML的EUV光刻机才真正开始盈利”，而ASML在这项技术上投入的时间是27年。试问有多少企业可以做到。

3、更换供应商成本太高。

买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外（EUV）光刻机每台售价达到1.2亿美元，重达180吨，零件超过10万个，运输时能装满40个集装箱，安装调试时间超过一年。除此之外，磨合与提高良率都需要时间堆砌，只要没有大的技术变革，厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。

台积电（占据全球晶圆代工的大半壁江山）、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户，其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东，三大巨头转投其他家的可能不大。

光刻机之所以重要，在于它是实现摩尔定律的基础：

摩尔定律指出集成电路上能被集成的晶体管数目，将会以每18个月翻一番的速度稳定增长。可以把晶圆的整体构造想象成在微观世界构建大楼，如果想让整个建筑有更多的小房间可以容下晶体管，这就要求房屋的整体框架要精细再精细。反映到光刻机上就意味着它投射到晶圆上的尺寸越小。

EUV光刻机代表了大厂在先进制程方面的领先性，目前只有荷兰ASML一家能够提供可供量产用的EUV光刻机。各大Foundry厂和IDM厂在7nm以下的最高端工艺上都会采用EUV光刻机，客户以英特尔、台积电、三星、SK海力士为主。

ASML在2019年出售了26台极紫外线(EUV)光刻设备，大概一半供给了台积电。

芯片为什么要用光刻机 芯片生产要用到光刻机的原因是什么

1、光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

2、因为芯片远比这小得多，动不动就是nm的，这些最小也就是μm级别，那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了，用光线在芯片上刻，就是光刻机。

3、Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的图案投影到芯片上。

光刻机为什么这么重要？

当地时间8月6日，华为孟晚舟案已经结束引渡的“程序滥用”分支辩论，其实无论怎么样，只要华为不低头，放弃在5G方面的领先地位，美国就不会善罢甘休，我相信任正非先生也有这个准备，肯定会在别的方面有打算。

美国在5G方面对中国的打压，已经无所不用其极，前些时日，组织荷兰阿斯麦（AMSL）公司向中国出口EUV光刻机，也就是说，美国已经在两个方面对中国的5G进行打压，一是通过扣押孟晚舟来威胁华为放弃5G技术或者交出相关资料。另一方面，通过阻止中国获得加工工具，阻止中国在芯片制造技术上的进步。

科技 是解放和发展生产力，创造价值的极其重要的手段，甚至已经能引领未来的经济活动。为了利益，美国已经不再遮掩，连遮羞布都不要了。

5G技术咱们不多谈，聊一下光刻机到底是什么？

首先 了解一下什么是芯片？

芯片是一种微型的集成电路（integrated circuit）。就是在半导体晶片上把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连在一起。

芯片很小，要是把元件做得很小然后组装在晶片上，微操作难度太大。因此，现在芯片使用的都是光刻工艺，是一种光学、化学工艺领域的技术。 光刻工艺包括硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其中，如何精准曝光，关系到芯片刻蚀精确度，即关系到芯片的成功率。

芯片制作曝光需要紫外光源。而要做到纳米级的控制，需要极紫外光（EUV）。因此，现在芯片制作加工需要的光刻机，也叫极紫外光刻机（简称EUV）。

ASML是世界上最优秀的光刻机制造商，其光刻机精度最高能满足3nm芯片的生产需要，及其先进。这使得它几乎占据全球整个高端光刻机制造市场。

十四五规划中，国家下决心解决卡脖子技术，因此中国也在光刻机制造领域奋力追赶。目前从相关报道来看，中国武汉光电中心的研究已经突破9nm光刻技术，跟最高水平仍有较大的差距，不过由于是国家层面制定了战略规划，集中力量干这件大事，因此追上和超过应该是绝对有信心的。

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